티타늄 스퍼터링 타겟을 선택할 때 고려해야 할 몇 가지 요소가 있습니다.또한 다양한 티타늄 스퍼터링 타겟의 장단점에 대해서도 논의합니다.
맞춤형 티타늄 스퍼터링 타겟 사용 가능
티타늄 스퍼터링 타겟은 다양한 크기, 순도 및 가격으로 제공됩니다.재료 특성에 따라 필요에 맞는 것을 선택할 수 있습니다.티타늄은 금속을 포함한 많은 재료의 제조에 사용됩니다.티타늄 스퍼터링 타겟은 고급 열간 정수압 프레스 공정으로 생산됩니다.평판 디스플레이 코팅, 장식 코팅, 반도체 부품에 널리 사용됩니다.다른 금속 타겟과 달리 티타늄 알루미늄 스퍼터링 타겟은 미세 구조가 균일합니다.
티타늄 타겟의 불순물 함량
스퍼터링된 필름의 성능은 주로 티타늄 타겟의 순도에 따라 달라집니다.순도가 높을수록 필름에 불순물 원소가 적게 존재하고 결함 가능성이 낮아집니다.일반적으로 장식용 코팅에 사용되는 티타늄 타겟은 순도 측면에서 그리 까다롭지 않습니다.그러나 집적회로, 디스플레이 등 고성능 전자부품이 필요한 기기의 경우 순도가 중요하다.불순물 요소와 다공성 개재물은 티타늄 타겟의 주요 오염원입니다.
고품질의 Titanium 타겟은 불순물을 최소화하고 이상 방전 현상을 방지합니다.또한 스퍼터링 특성을 안정화하고 증착 중에 입자를 억제합니다.결과적으로 고품질 티타늄 타겟은 전자 장치용 박막을 형성하는 데 도움이 될 것입니다.티타늄 타겟은 쇼어 경도가 20 이상이고 기저면 배향 비율이 70% 이하입니다.그들은 또한 매우 내구성이 있으며 최대 2%의 인장 테스트 결과를 견딜 수 있습니다.
티타늄 타겟의 밀도는 전기적 및 광학적 특성에 영향을 미칩니다.
대상 물질의 광학적 및 전기적 특성은 밀도에 따라 달라집니다.본 연구에서는 티타늄 타겟의 밀도의 영향을 조사했습니다.표적의 밀도는 여러 지점에서 표면의 저항률을 측정하여 결정되었습니다.이 연구의 결과는 티타늄 막이 주변 공기보다 훨씬 더 밀도가 높다는 것을 보여주었다.타겟의 밀도 증가가 이 결과를 설명합니다.
타겟 밀도는 증착 속도 및 구조적 특성에 영향을 미치지 않지만 타겟 결절의 형성에는 영향을 미치는 것으로 관찰되었습니다.타겟의 밀도는 기판 온도에 따라 달라지며 타겟 밀도를 높이면 기판의 투과율과 가시 스펙트럼의 저항률이 감소합니다.타겟의 밀도가 타겟의 광학적 및 전기적 특성에 영향을 미치는지 추가 연구가 밝혀질 것입니다.
제조방법
티타늄 타겟 티타늄 타겟의 제조 방법은 티타늄 원료를 녹이고 녹은 수프를 주조하여 블랭크 잉곳을 얻는 것입니다.빌릿이 주조되면 1차 열처리와 열 보존이라는 공정을 거칩니다.다음 단계는 두 번째 빌릿을 형성하는 두 번째 열처리를 포함하며, 그 다음 냉간 압연됩니다.이 공정은 입자 크기와 경도를 줄이고 소성을 증가시킵니다.
고품질 티타늄 타겟은 불순물을 줄이고 스퍼터링 특성을 안정화하며 증착 공정 중에 입자 형성을 억제할 수 있습니다.반도체 기술이 등장한 이후 수많은 전자 장치가 개발되었습니다.기술이 발전함에 따라 이러한 장치는 더욱 정교해지고 유용해졌습니다.티타늄 타겟의 제조 공정은 이러한 제품이 가능한 한 우수한지 확인하는 데 중요합니다.스퍼터링 및 증착 공정을 통해 전자 장치용 박막을 비롯한 다양한 박막을 생산할 수 있습니다.
